Введение

В настоящее время кохлеарная имплантация (КИ) является самым эффективным методом реабилитации пациентов с сенсоневральной тугоухостью высокой степени и глухотой. Использование кохлеарных имплантов существенно повышает уровень жизни данной категории пациентов [1].

В результате успешно проведенной КИ у детей с врожденной сенсоневральной глухотой слухоречевое развитие ребенка может достичь такого же уровня, как и у нормально слышащих детей [2]. После проведенной КИ через многоканальную электродную систему обеспечивается электрическая стимуляция сохранных волокон слухового нерва [1].

О функциональном состоянии самого устройства можно судить по зарегистрированным уровням сопротивления электродов (импедансу) [3].

Данное измерение позволяет проверить правильность функционирования каждого электрода электродной решетки импланта [4]. Измерение сопротивления электродов проводится как интраоперационно, так и в послеоперационном периоде. Многие авторы [5, 6] отмечают, что с помощью регистрации сопротивления электродов можно диагностировать различные нарушения в работе импланта, такие как обрыв электродной цепи или выход из строя одного или нескольких электродов, а также определить короткое замыкание. Нормальными считаются показатели сопротивления от 1 до 20—30 кОм в зависимости от производителей. Показателем короткого замыкания считается величина <1 кОм, в то время как при открытой цепи показатели сопротивления превышают 20—30 кОм [7]. Автором [5] отмечено, что на энергопотребление речевого процессора влияет непосредственно уровень межэлектродного сопротивления — при низком сопротивлении снижается потребление энергии речевым процессором.

Анализ данных, полученных при регистрации межэлектродного сопротивления, позволяет предположить, какие процессы происходят в мягких тканях и жидкостях внутреннего уха вокруг электродной решетки [8].

В исследовании авторов [9] было проведено сравнение стабильности сопротивления электродов при использовании различных систем кохлеарных имплантов в течение 24 мес (3, 6, 9, 12, 18 и 24 мес) после операции. Через 3 мес было отмечено снижение межэлектродного сопротивления у пациентов с имплантами фирмы «Cochlear» на 4 кОм в среднем. У пациентов с имплантами фирмы «Advanced Bionics» также было отмечено снижение импеданса в среднем на 1 кОм. Через 6 мес наблюдалось дальнейшее снижение сопротивления электродов у пациентов с имплантами «Cochlear», в то время как у пациентов с имплантами «Advanced Bionics» уровень межэлектродного сопротивления остался таким же, каким был через 3 мес после операции. Через 9 и 12 мес после проведенной КИ уровень межэлектродного сопротивления как на имплантах «Cochlear», так и на имплантах «Advanced Bionics» был относительно стабильным по сравнению с результатами, полученными через 6 мес после операции. Через 1 год после операции в группе пациентов с имплантами «Advanced Bionics» уровень межэлектродного сопротивления существенно не изменился по сравнению с результатом, полученным через 12 мес после операции. Автор отметил более нестабильную динамику сопротивления у имплантов «Cochlear».

Объяснением данной находки авторов может служить то, что в исследовании использовались кохлеарные импланты фирмы «Cochlear» с прямой электродной решеткой, и это являлось причиной высоких и нестабильных результатов у пациентов с данными кохлеарными имплантами.

Группой авторов [4] было проведено сравнение изменения уровня межэлектродного сопротивления во время проведения операции, при подключении речевого процессора и во время последующих настроечных сессий. Был сделан вывод, что во время подключения речевого процессора уровень межэлектродного сопротивления был выше, чем во время операции. При регистрации межэлектродного сопротивления в последующих настроечных сессиях отмечалось уменьшение этого уровня по сравнению с результатом, полученным при подключении речевого процессора. Был сделан вывод, что увеличение уровня межэлектродного сопротивления, отмеченное во время активации речевого процессора, может быть связано с воспалительными явлениями, возникающими после введения электродной решетки во внутреннее ухо. Последующее снижение уровня сопротивления авторы связывают с началом электрической стимуляции и уменьшением воспалительных явлений во внутреннем ухе.

Таким образом, имеющиеся в литературе противоречия о динамике межэлектродного сопротивления определили актуальность и необходимость дальнейших исследований в этой области.

Цель нашей работы — определение динамики изменений величины межэлектродного сопротивления в послеоперационном периоде после КИ, а также времени их стабилизации.

Материал и методы

В исследование были включены 75 пациентов с диагнозом «выраженная двусторонняя сенсоневральная тугоухость и глухота» в возрасте от 1 года до 4 лет (средний возраст 1,5 года).

Исследование проводилось в соответствии с заключением этического комитета Российского научно-клинического центра аудиологии и слухопротезирования ФМБА России и Российской медицинской академии непрерывного профессионального образования Минздрава России.

Пациентам была проведена КИ на клинической базе Российского научно-клинического центра аудиологии и слухопротезирования ФМБА России — в ДГКБ Св. Владимира Департамента здравоохранения Москвы.

Пятидесяти пациентам были установлены кохлеарные импланты CI 512 (CA) и речевой процессор Nucleus CP-900 фирмы «Cochlear» (Австралия). Двадцати пяти пациентам были установлены импланты Hi Res 90K MS и речевой процессор Naida CI Q70 фирмы «Advanced Bionics» (Швейцария).

У пациентов с имплантами «Cochlear» использовалась мода стимуляции MP1+2. На этапе активации речевого процессора регистрация уровня межэлектродного сопротивления была выполнена как до, так и после его подключения. Оценивались изменения межэлектродного сопротивления в динамике на всех 22 электродах: интраоперационно перед проведением телеметрии нервного ответа (T0), через 1 мес перед подключением речевого процессора (T1), сразу после подключения речевого процессора и начала электрической стимуляции (T2), а также через 3 (T3) и 6 (T4) мес.

Пациентам с имплантами «Advanced Bionics» в динамике оценивали изменение межэлектродного сопротивления на всех 16 электродах: интраоперационно перед проведением ТНО (T0), через 1 мес перед подключением речевого процессора (T1), через 3 (T3) и 6 (T4) мес. Измерение сопротивления после подключения речевого процессора (T2) у пациентов этой группы не проводили.

Измерение сопротивления проводили с помощью программного обеспечения Custom Sound EP 5.0 «Cochlear» и SoundWave 3.0 «Advanced Bionics».

Статистический анализ

Сравнение двух групп по количественным шкалам проводили на основе непараметрического критерия Манна—Уитни. Сравнение трех групп и более по количественным шкалам проводили на основе непараметрического критерия Краскела—Уоллеса. Для описания количественных показателей использовали среднее значение и стандартное отклонение M±S. Для проведения оценки изменения сопротивления электродов, измеренных в различные промежутки времени, рассчитывали коэффициент корреляции Пирсона. Анализ проводили с использованием пакета IBM SPSS Statistics for Windows, версия 23.0.

Результаты

При анализе результатов, полученных при изучении динамики уровня межэлектродного сопротивления у пациентов с имплантами «Cochlear», во временном промежутке T0—T1 была отмечена тенденция к снижению сопротивления, однако полученные результаты были статистически недостоверны (p>0,05). Это можно объяснить наличием остаточных послеоперационных воспалительных явлений в улитке. Статистически достоверное снижение сопротивления электродов (p<0,05) было отмечено во временных промежутках T0—T2, T0—T3, T0—T4, а также в интервалах T1—T3, T1—T4 и T2—T4. Во временных интервалах T1—T2, T2—T3 и T3—T4 изменения сопротивления были статистически недостоверны (p>0,05) (рис. 1).

Рис. 1. Изменение сопротивления электродов (1, 4, 7, 11, 15, 17, 20, 22) у пациентов с КИ «Cochlear» в динамике.

При сравнении данных, полученных у пациентов с имплантами «Advanced Bionics», было отмечено, что временные промежутки T0—T3, T0—T4, T1—T4 характеризовались статистически достоверным снижением сопротивления электродов (p<0,05). В интервалах T0—T1, T1—T3, T3—T4, несмотря на тенденцию к снижению межэлектродного сопротивления, полученные данные оказались статистически недостоверными (p>0,05) (рис. 2).

Рис. 2. Изменение сопротивления электродов (1, 3, 5, 8, 11, 13, 16) у пациентов с КИ «Advanced Bionics» в динамике.

Заключение

При анализе интраоперационных результатов (T0) с результатами, полученными в различные сроки после операции (T1, T2, T3, T4) в группе пациентов с имплантами «Cochlear», статистически достоверное уменьшение уровня сопротивления было отмечено в интервалах T0—T2, T0—T3, T0—T4, в то время как во временном интервале T0—T1 был получен статистически недостоверный результат, что может быть связано с остаточными послеоперационными воспалительными явлениями во внутреннем ухе. При анализе динамики изменения межэлектродного сопротивления после операции у пациентов с имплантами «Cochlear» достоверное снижение уровня межэлектродного сопротивления было отмечено в интервалах T1—T3 и T1—T4, в то время как в интервале T3—T4 изменения были статистически недостоверными. Это позволяет предположить, что стабилизация сопротивления наступает к 3-му месяцу после подключения речевого процессора.

При проведении анализа интраоперационных результатов (T0) с результатами, полученными в дальнейшие сроки (T1, T3, T4) в группе пациентов с имплантами «Advanced Bionics» в интервалах T0—T3, T0—T4 наблюдался статистически достоверный результат, в то время как во временном промежутке T0—T1 результат был статистически недостоверным. Полученные результаты можно объяснить отсутствием электрической стимуляции слухового нерва в данном временном интервале, а также послеоперационными воспалительными явлениями во внутреннем ухе. При проведении анализа результатов, полученных в послеоперационном периоде, временные интервалы T1—T3 и T3—T4 были статистически недостоверны, в то время как временной интервал T1—T4 характеризовался статистически достоверным результатом. Из этого следует, что в отличие от имплантов «Cochlear» у пациентов с имплантами «Advanced Bionics» стабилизация уровня межэлектродного сопротивления отмечается к 6-му месяцу после подключения речевого процессора. Необходимо отметить, что описанная нами динамика межэлектродного сопротивления наблюдалась по всей электродной решетке, при этом в начальные сроки реабилитации более высокие уровни сопротивления отмечались в базальных участках улитки, в то время как стабильность отмечалась на уровне среднего и апикального завитков (см. рис. 1 и 2).

Таким образом, проведенное нами исследование показало, что снижение межэлектродного сопротивления начинается после подключения речевого процессора, с началом постоянной электрической стимуляции, и стабилизируется через 3—6 мес после подключения (в зависимости от фирмы-производителя имплантов).

Сравнение данных о динамике сопротивления, полученных в настоящем исследовании, и результатов изучения динамики порогов электрически вызванного потенциала действия слухового нерва, приведенных в нашей предыдущей работе, позволяет говорить о наличии достоверной корреляции между снижением сопротивления и порогов электрически вызванного потенциала действия слухового нерва.

Полученные нами данные могут быть использованы для оптимизации алгоритмов планирования и верификации протоколов настройки речевого процессора кохлеарного импланта на основе применения объективных методик с максимальной автоматизацией процессов, что чрезвычайно важно при работе с маленькими детьми.

Авторы заявляют об отсутствии конфликта интересов.

The authors declare no conflicts of interest.